A Kaliforniai Egyetem kutatói kifejlesztettek egy különleges pamut arcmaszkot, amely napfénynek kitéve egy óra alatt képes 99,999 százalékban megölni a rárakódott baktériumokat és vírusokat.

Peixin Tang, Gang Sun, Nitin Nitin és kollégái olyan új pamutanyagot akartak létrehozni, amely reaktív oxigénfajokat (ROS – molekuláris oxigénből származó, kémiailag reaktív molekulák) bocsát ki, ha napfénynek teszik ki, megölve az anyag felszínéhez tapadó mikrobákat, miközben mosható, újrafelhasználható és biztonságos használója számára – olvasható az Amerikai Kémiai Társaság közleményében.

A maszkot hordó szermély fertőtlenítheti azt ebédszünetében, ha napfényben tartózkodik, sőt beltéri fények által is hosszabb időt töltve az irodában vagy más épületben, habár ez a napfénynél kevésbé intenzív módja a fertőtlenítésnek.

Az ACS Applied Materials & Interfaces című tudományos folyóiratban bemutatott tanulmány szerint a kutatók hagyományos pamutanyaghoz 2-dietilaminoetil klorid (DEAE-CI) pozitív töltésű láncait kötötték. Ezt a módosított pamutanyagot megfestették egy negatív töltésű fényérzékenyítő oldatában (egy olyan vegyületben, amely fény hatására kibocsátja a reaktív oxigénfajokat), amelyet erős elektrosztatikus kölcsönhatásban kötöttek a DEAE-láncokhoz.

A kutatók kimutatták, hogy a napfény 60 percen belül megölte az általuk létrehozott anyagra telepített baktériumok 99,999 százalékát, és 30 percen belül semlegesítette a T7 bakteriofágot, egy vírust, amely egyes koronavírusoknál is ellenállóbb a reaktív oxigénfajoknak.

A további tesztelések kimutatták, hogy az anyagot legalább tíz alkalommal kézzel ki lehetett mosni, és nem veszítette el antimikrobiális jellegét, ha folyamatosan napfénynek tették ki legalább hét napon át.  A kutatók szerint az anyag ígéretes alapanyag lehet többször használatos antibakteriális/antivirális arcmaszkok és védőruhák készítéséhez. (MTI)